技术编号:6903341
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的领域在总体上涉及一种利用现场等离子体激励对等离子体室 进行清洗的独特方法和设备。背景技术各种处理室,例如用于制造半导体、平板、太阳能电池板等的真空室, 需要定期进行清洗。这种清洗通常采用等离子体激励来实现。在现有技术 中,对于这种清洗存在两种有关的已知方法,其通常被称为远程等离子 体清洗以及现场等离子体清洗。通常,用于清洗目的的等离子体的产生不 同于用于制造工艺的等离子体的产生。这种不同的一个起因是需要避免室 壁和卡盘被等离子体侵蚀。因此,用于清洗...
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