磁路机构和具有该机构的磁控溅射阴极及制造方法技术资料下载

技术编号:6903546

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本发明涉及一种磁场产生机构,尤其涉及一种能产生变化磁场的用来形成 光学数据载体的反射层或半反射层的真空镀膜装置中的磁路机构。背景技术众所周知,在溅镀法中,离子一般由辉光放电中的气体原子和电子之间的 碰撞所产生。这些离子由于加速到靶阴极之中并导致所述靶材的原子从所述阴 极表面喷射出。基片放置在适当的位置以使其截取所喷射出的原子的一部分。 因此,靶材镀膜就沉淀在所述基片的表面上。溅镀镀膜是一项广泛应用的技术,用于在村底上沉淀材料薄膜。溅镀是由 于气体离子轰击靶...
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