技术编号:6905095
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及相移掩模,更具体地说,涉及校正在三色调衰减相移掩模中的邻近效应的结构和方法。背景技术 照相制版技术是在半导体工业中众所周知的工艺,它用于制成集成电路(IC)中的线,触点和其它已知结构。在常规的照相制版技术中,照明掩模(或刻度片),该掩模(或刻度片)具有表示一个IC层结构的透明和不透明的区域的图形。随后,将透过掩模的光聚焦在晶片上的光刻胶层上。在随后的显影冲洗处理工艺中,去除由图形所定义的部分光刻胶层。这样,掩模的图形就转移到或者印刷到了光刻胶层上...
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