技术编号：6905175
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及芯片制造技术，特别涉及一种。背景技术在最近十年的半导体工业发展中，光刻蚀技术的发展起着决定性作用。在半导体 工业的集成电路(IC， Intergrated Circuit)技术中，光刻蚀技术的发展对每一片晶圆的成 本节约起着大部分的作用。随着光刻蚀技术的稳定提高，光刻采用的光信号波长越来越短， 在此基础上，IC的光刻蚀技术的提高依赖于进行光刻蚀的镜头和显影材料技术的发展。但 是，随着IC的特征尺寸縮小为45纳米或更小，IC进入亚微米尺寸，在IC中...
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