技术编号：6909777
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到半导体等离子体腐蚀。更确切地说是涉及到利用模糊逻辑和神经网络来表征半导体等离子体工艺的方法和系统。背景技术 在半导体工业中，等离子体腐蚀已经成为半导体电路制造的一个组成部分。例如，在半导体工艺中，当需要比较直的垂直边沿时，经常使用等离子体腐蚀器。例如，当腐蚀MOS晶体管的多晶硅栅时，多晶硅的基蚀对晶体管运行有不利的影响。当用液体腐蚀方法执行腐蚀时，常常遇到基蚀。等离子体腐蚀是采用电场加速的离子，倾向于仅仅腐蚀水平暴露的表面，因而避免了基蚀。所有...
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