技术编号:6910451
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空泵,其用于例如半导体制造过程。背景技术 在半导体制造过程中,真空泵将所产生的反应产物(气体)从半导体加工系统中排出。该真空泵有一个容纳一个泵机构的外壳。一个连接到一废气处理系统的排气通道形成部分隆起地设置在该外壳的外部。从该泵机构排出的气体通过一个形成在排气通道形成部分中的排气通道被导入该废气处理系统中。因为排气通道形成部分不易被泵机构的热量所影响而且薄,所以其温度低于外壳的温度。因此,从该泵机构中排出的反应产物在其通过排气通道时是冷却和...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。