技术编号:6911250
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请是申请日为1999年8月20日的相关未审定申请S.N.09/378,274的系列申请。本申请涉及一种蒸汽发生器,其包括一个高完整性、高纯度的双室化学汽相淀积(CVD)源容器。所述蒸汽发生器应满足在化合物半导体和薄膜加工中所用的汽相外延及其它化学汽相淀积设备的特殊要求。所述蒸汽发生器应能安全地控制、维持急剧反应的化学物品的最高纯度。本发明特别涉及一种双室蒸汽发生器容器以及一种获得对用于化学汽相淀积系统的固态有机金属源进行稳定。即均匀配送的方法。非均匀配...
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