技术编号:6921656
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种连续涂覆设备,具体地用于生产纳米晶、微晶、多曰 曰曰(polycrystalline )、多晶体(multicrystalline )或者单晶薄膜,以下通常称为 晶态薄膜。本发明还涉及生产晶态薄膜的方法并且尤其用于生产硅串联太阳 电;也。jt匕夕卜,;^;^明^背景技术在微电子装置和光伏装置中所使用的半导体器件主要基于半导体材料 硅。自从1960年代以来单晶半导体晶片已经被主要使用,并且对应的结构 被引入单晶半导体晶片中,单晶半导体晶片逐渐被...
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