技术编号：6922810
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用光酸蚀刻图案化的方法以及由其制得的制品。 背景技术集成电路包括诸如通过电连接连接在一起的电阻器、二极管、电 容器和晶体管之类器件的电活性组合。薄膜集成电路包括通常在半导体材料上形成的多个层，例如金属层、电介质层以及活性层。通常， 薄膜电路元件和薄膜集成电路通过如下方式产生沉积多种材料层， 然后用加成或减成法中的光刻法来使这些层图案化，加成或减成法可 包括化学蚀刻步骤以限定各电路元件。传统集成电路可直接构建在硅芯片上。最近，柔性集成电路己受 到...
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