技术编号:6923103
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。具有单一平面天线的电感耦合双区域处理室背景技术等离子体处理装置通过包括刻蚀、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)离子 注入和光刻胶(resist)除去等的技术来处理衬底。等离子体处理中使用的一种等离子体 处理装置包括外部感应天线。在天线下面的室中产生电磁场以将处理气体激励为等离子态 从而在该反应室中处理衬底。发明内容 提供一种双区域等离子体处理室。该等离子体处理室包括具有适于在该处理室中支撑第一衬底的第一支撑表面的第一衬底支柱和具有适于在该处理室...
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