技术编号:6924255
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及工件处理领域,例如,处理半导体晶片,更具体地,涉及多工件处理室及其使用方法。背景技术目前在生产半导体晶片中使用的许多处理系统出于提高系统产量的目的能 够一次加工一个以上的晶片。然而现有技术中声称,与多晶片处理室结构相比,单晶 片处理室提供了更一致的处理结果。大概,在“跨晶片(across-wafer)”和“站到站 (station-to-station) ”中的这种一致性的下降被认为可直接归因于在共用的处理室和环 境中的相邻晶片处理站之间的连...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。