技术编号:6926072
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉参考本申请以申请日为2001年11月27日的日本专利申请No.平-1-361505为基础并要求其优先权,在此引入其内容作为参考。背景技术在日本专利申请特许公开No.10-73927中说明了称作RELACS的技术,其中通过使用KrF(氟化氪)受激准分子激光(波长248nm)的深紫外线光束作为光致抗蚀剂(下文简称为“抗蚀剂”)的曝光光源,可形成精细的图形。该技术包括通过采用KrF(氟化氪)受激准分子激光(波长248nm)作为曝光光源曝光抗蚀剂(正...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。