技术编号：6926373
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在处理容器内例如向FPD (平板显示器)用的玻璃基板 等被处理体供给处理气体，利用该处理气体对上述被处理体进行规定处 理的技术。背景技术在LCD (Liquid Crystal Display液晶显示器)用的玻璃基板等的 制造工序中，具有对形成于玻璃基板上的铝(Al)膜实施蚀刻处理的 工序。根据图27简单地对进行该工序的蚀刻处理装置的一个例子进行 说明，图中的标号1为真空腔室，在该真空腔室1的内部设置有用于 载置作为被处理体的例如FPD基板S (...
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