技术编号:6926735
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于蚀刻铟锡氧化物层的蚀刻剂组合物以及利用该蚀刻剂组 合物蚀刻铟锡氧化物层的方法,更详细地说,本发明涉及一种蚀刻剂组合物, 其对铟锡氧化物(ITO)透明导电层具有优异的蚀刻性能,具有稳定性,在蚀 刻工序期间减少对光敏材料例如光致抗蚀剂的化学侵蚀,并且不会留下残留物i景技术 、 —、,液晶显示器(LCD)设备具有高分辨率并显示生动的图像。另外,LCD 设备能耗低。此外,可以将LCD设备制得很薄。由于这些优点,LCD设备已 成为最常用的平板显示设备之...
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