技术编号:6927345
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种衬底处理设备,且更明确地说,涉及一种能够均匀地加热真空腔室 内的衬底安放部件且减少用于加热衬底安放部件的感应加热单元的功率消耗的衬底处 理设备。背景技术一般来说,半导体装置、有机装置和太阳能电池装置是通过沉积多个薄膜并对其进 行蚀刻以获得所耍特性来制造的。衬底处理设备在等于或大于大约300'C的高温下执行 沉积和蚀刻薄膜的过程。在这一点上,上面沉积有薄膜的衬底的温度在薄膜沉积过程中 充当非常重要的因素。即,在衬底的温度不均匀的情况下,薄膜的沉...
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