技术编号：6927389
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于对基板的主面实施使用了蚀刻液的蚀刻处理的基板处理 装置及其所使用的基板支撑构件。成为蚀刻处理对象的基板包括例如半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、等离子显示器用玻璃基板、FED (Field Emission Display场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁 盘用基板和光掩模用基板等。背景技术在半导体器件的制造工序中，对半导体晶片(以下，仅称为"晶片")进行使用了处理液的液处理。这种液处理的一种是向晶片的主面供给蚀刻液 而进行...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。