技术编号:6929609
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用化学方法处理基片的系统及方法,尤其适用于对12英寸以上 的集成电路硅片和掩模板,以及高清晰的液晶、等离子、有机发光等新型显示器的平板基片 湿处理过程中,。背景技术自半导体集成电路产业开始至今60多年以来,湿处理一直是其生产中必不可少 及极其重要的工艺步骤与技术。它不仅用于祛除因先前的加工程序而造成的基片表面损伤 及金属与非金属污染物,而且还能为下一步工艺过程形成一个最优的基片工艺表面状态。 这一湿处理过程占据了整个超大规模集成电路(VLSI...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。