技术编号:6929613
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路制造领域,尤其涉及气体输送装置以及干法刻蚀装置。背景技术集成电路制造领域中,干法刻蚀是一种常见的刻蚀工艺。干法刻蚀是将特定的刻 蚀气体通入至于反应室中的样品表面,在特定的条件下,气体同样品表面的物质发生化学 反应,从而达到刻蚀的目的。刻蚀所用的气体采用专门的气体输送装置输送至反应室中。为了保证刻蚀所用的 气体可以在晶圆表面形成均勻稳定的气流,以保证刻蚀厚度和线宽的均勻性,刻蚀气体通 常被分为不同的气路,通过反应室上方的气体喷嘴进入反应室。...
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