技术编号:6930063
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体制造技术,特别是涉及一种膜淀积技术中对所形成的膜的 膜厚均勻性进行监测的方法。背景技术所谓膜(或薄膜),是指一种在硅片上生长的固体物质,这种固体物质在某一维的 尺寸(厚度)通常远小于另外两维(长度、宽度)的尺寸。半导体制造中的膜淀积(或薄 膜淀积)是指任何在硅片上形成一层膜的工艺,这层膜可以是导体、半导体或绝缘体。目前的膜淀积技术分为化学工艺和物理工艺两大类。化学工艺主要包括化学气相 淀积(CVD)、电镀等;物理工艺主要包括物理气相淀积...
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