技术编号：6931101
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微电子，具体地，涉及一种调整电流分配的方法/装置。此 外，本发明还涉及一种应用该调整电流分配的方法/装置的等离子体处理设备。背景技术随着电子技术的高速发展，人们对集成电路的集成度要求越来越高，这就要求生 产集成电路的企业不断地提高半导体器件的加工/处理能力。目前，在半导体器件的加工 /处理领域中，常常需要用到等离子体刻蚀技术和等离子体沉积技术，而这些技术通常都要 借助于诸如等离子体刻蚀机等的等离子体处理装置来实现。因此，在半导体器件的加工/处理领...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。