技术编号：6933000
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及静电吸盘。背景技术静电吸盘在半导体器件制造的各种工序中主要作为固定工件的载置台使用。这里作为工件主要相当于晶片或调制盘。静电吸盘除了固定晶片之外，还有以从晶片有效地去除伴随工序产生的热，将晶片的温度维持在一定的目的来使用的情况。例如，为了提高晶片的冷却效果，静电吸盘配置在冷却装置上。另外，以从吸附在静电吸盘上的晶片吸取热量的目的为了向晶片的背面流入氦等背流气体，在静电吸盘上设有用于背流气体流入的细孔(例如，参照日本特开2000-315680号7&...
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