用于形成相变化材料层的方法技术资料下载

技术编号:6933043

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本发明是有关于基于相变化存储器材料(phase change memory material)的高密度存储器装置的,且特别是有关于用于刻蚀相变化存储器 材料的工艺。本申请案主张2008年3月25日申请的美国临时申请案第61/070,730 号的优先权。上述专利申请案的全文以引用的方式并入本文中且构成本说 明书的一部分。背景技术可通过施加处于适合在集成电路中实施的电平的电流而致使如基于 硫族化物的材料以及类似材料的基于相变化的存储器材料在非晶状态与 结晶状态...
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