技术编号:6934453
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及太阳能电池制造领域,特别是涉及。背景技术一般的太阳能电池制造方法是采用组合热扩散法与网版印刷法的方法。在P型硅 上以热扩散法形成N型扩散层。该方法仅采用一次热扩散,步骤简单,但不能有效降低接触 电阻,无法得到较高的转换效率。目前采用的选择性射极太阳能电池制造方法是采用两次掩模热扩散。第一次热扩 散是在电极下方形成高浓度扩散层;第二次是使受光面整面扩散,形成低浓度扩散层。仅在 电极下方形成含有高浓度掺杂剂的高浓度扩散层(射极层)可以获得较低的欧姆接...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。