技术编号:6936825
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对被处理基板实施等离子体处理的技术,尤其涉及电 容耦合型的等离子体处理装置及等离子体处理方法。背景技术在半导体器件或FPD (Flat Panel Display平板显示器)的制造工 艺中的蚀刻、沉积、氧化和溅射等的处理中,为了在处理气体中以比 较低的温度进行良好的反应经常利用等离子体。在现有技术中,在枚 页式的等离子体处理装置、尤其是等离子体蚀刻装置中,电容耦合型 的等离子体处理装置已成为主流。一般来说,电容耦合型的等离子体处理装置在作为真空腔...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。