技术编号：6938004
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种研磨机台，且特别是有关于一种用于研磨机台的压力调整系统。当进行微影蚀刻借此以定义一层沉积在基底上的层时，一个不平坦的上表面会造成问题，举例来说，在曝光期间沉积层会散布光线，图案转移到沉积层的精准度与沉积层的上比面的平坦度有相当的关联，且其精准度仅有在沉积层表面没有变动下可以被确定，因此基底的表面需要定期的进行平坦化，以提供相当平坦的表面结构，像是化学机械研磨制作工艺等研磨方法就是公知的方式。请参照附图说明图1，其绘示为一公知研磨机台的简示...
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