技术编号:6938641
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种半导体工艺的监控方法,且特别是有关于一种排除不影响合格率的重复性缺陷(Repeating Defect)来监控真正缺陷(True Defect)的方法。特别是,在一光罩制作过程中,可能会有一些异常图案形成在光罩上,但这些异常图案却不容易被发现。然而,这些异常图案在后续微影工艺中将会同时被转移至晶圆上,而于晶圆上形成缺陷。特别是当利用重复且步进(Step and Repeat)曝光技术而进行光罩图案的转移时,这些由光罩上所转移来的缺陷便会重...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。