技术编号：6939652
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体制造领域或微电子电路制造领域中的工件传递技术，特别 是涉及一种。背景技术在半导体加工、微电子电路制造领域中，会涉及多达几十种设备以及几百个加工 处理步骤，这些加工处理步骤中的大部分都必须在真空环境下进行。以半导体制造为例，由于半导体产品的生产逐渐趋向较大的半导体晶圆(从8英 寸到12英寸，而现在已向18英寸发展)，单晶圆工艺(一次处理一片晶圆)最近已被广泛 地采用。在单晶圆工艺中，加工设备一次只能处理一片晶圆先将一片晶圆从大气环境传递 ...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。