技术编号:6941785
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及气体喷射装置及具备该气体喷射装置的处理室,更详细地说,涉及在 大面积的被处理基板上均勻地喷射工艺气体的气体喷射装置,以及具备该气体喷射装置的处理室。背景技术一般而言,在制造液晶显示装置、太阳能电池等产品时,需要执行在玻璃基板等被 处理基板上沉积各种类型的薄膜的工序,以及对沉积的薄膜进行蚀刻的工序等各种制造工 序,这些工序在为相应工序提供最佳条件的基板处理装置内进行。尤其是,在被处理基板 上形成薄膜的工序,主要通过利用等离子的化学气相沉积(Chem...
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