技术编号:6943897
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及封装制作晶圆TSV过程中所采用的腐蚀槽和相应的工艺方法,更确切 地说本发明是一种采用支撑晶圆以及BCB低温键合藉助腐蚀槽结构以制作高可靠性的晶 圆TSV,属于圆片级TSV三维互连封装。 背景技术为了满足超大规模集成电路(VLSI)发展的需要,新颖的TSVCThroughSilicon Via,穿硅通孔)三维封装技术应运而生,它用最小的尺寸和最轻的重量,将不同性能的芯 片和多种技术集成到单个封装体中,是一种通过在芯片和芯片之间、晶圆和晶圆之间制造 ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。