技术编号:6945390
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光加热非晶硅薄膜材料的方法,尤其涉及应用非晶硅薄膜上掩蔽 层,降低激光功率,提高非晶硅薄膜激光结晶质量的一种应用掩膜保护进行激光快速加热 方法。 背景技术激光晶化技术是一种利用激光能量密度高,升温快速的原理进行快速热处理以实 现薄膜材料的快速加热和结晶的技术。但是,目前应用脉冲激光对薄膜进行加热时,如果工 作频率过高会导致薄膜汽化,薄膜表面龟裂等结晶质量不佳的问题;如果工作频率过低,薄 膜又无法有效结晶。这成为了激光快速加热技术的一个瓶颈。因此...
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