技术编号:6951717
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,更具体地,涉及用于清洗作为处理 对象的基板,例如半导体晶片等的基板处理设备,并且涉及为此的基板处理方法。背景技术在例如半导体晶片等基板的制造工序中,基板处理设备通过将液体(例如化学 溶液等)提供到基板来处理基板。关于这点,日本专利申请公开No.2007-103825公开了 一种结构,其中将基板保持在转盘上;将处理喷嘴附接到臂;处理液体通过将所述处 理喷嘴与所述臂一起移动来提供到基板。如上面所描述的传统的基板处理设备使用喷射清洗技术来清洗掉基板上...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。