技术编号:6952784
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。技术背景以往,例如在半导体装置的制造领域等中,使用等离子蚀刻装置,该装置用于对半 导体晶圆、液晶显示装置用的玻璃基板等实施蚀刻处理等规定的等离子处理。考虑到要对硅制的半导体晶圆、各种硅膜等进行处理,在等离子蚀刻装置中使用 各种硅制零件。例如,在等离子蚀刻装置中,以往使用硅制的聚焦环(focus ring)作为以 围绕被载置在载置台上的半导体晶圆的方式配置的聚焦环。另外,也使用硅制的电极板作 为与载置台对置设置的对置电极的电极板。在上述等离子蚀刻...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。