技术编号：6953591
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种具备处理区和自输送容器取出基板的区的基板处理装置，该处理 区包括多个用于对基板进行单片式处理的处理单元。背景技术在半导体器件等的制造工序中进行液处理，该液处理通过将药液、纯水等处 理液供给到半导体晶圆(以下称作晶圆)等基板的表面上而将附着在基板上的微粒 (particle)、污染物质除去。作为进行上述液处理的液处理装置的一种，有下述液处理装置在旋转吸盘上一 张一张地载置基板，然后一边使基板旋转一边将处理液供给到该基板的表面上而执行液处 理。这...
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