技术编号:6953899
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种二次光刻实现薄膜晶体管结构的制作方法,属于半导体技术平板 显示领域。背景技术随着半导体技术的飞速发展,半导体器件的集成度越来越高,器件的特征尺寸越 来越小,制备工艺也越来越复杂。近年来,适用于平板显示行业的薄膜晶体管技术也在快速 发展。薄膜晶体管是场效应晶体管的种类之一,主要的制作方式是在基板上沉积各种不同 的薄膜,如半导体沟道层、栅绝缘介质层和导电的金属或者化合物电极层。薄膜晶体管是在 衬底上沉积一层半导体薄膜当做导电沟道层。目前使用的薄膜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。