技术编号:6956664
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体,特别涉及。 背景技术金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管是半导体制造中的最基本器件,其广泛适用于各种集成电路中,根据主要载流子以及制造时的掺杂类型不同,分为NMOS和PMOS晶体管。现有技术提供了一种MOS。请参考图1至图3所示的现有技术的MOS剖面结构示意图。请参考图1,提供半导体衬底100,在所述半导体衬底100内形成隔离结构101,所述隔离结构101之间的半导体衬底100为有源区,在所述有源区内形成掺杂阱(未示出)。然后,在所述隔离...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。