技术编号：6957029
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及在配线基板、电路基板的制造步骤中，光蚀刻所使用的光掩模等的基板洗净装置。背景技术光蚀刻所使用的光掩模需要洗净在曝光时附着的抗蚀剂等污渍，以往已提供了各式各样的洗净装置。就洗净方法而言，有利用旋转刷子去除污染、浸渍在洗净槽的洗净液中的方法、对基板高压喷射洗净液的方法、或者将上述各方法合并使用的方法等。此外，存在洗净时的粒子附着在基板上、洗净完成时在基板表面上产生水痕等问题，提供了解决上述问题的洗净装置。专利文献1 日本公开公报特开2003-29...
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