技术编号:6959928
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蓝宝石衬底制作领域,更具体地说,涉及一种图形化蓝宝石衬底的刻 蚀方法和系统。背景技术在整个图形化蓝宝石衬底制作过程中需要解决的主要技术难点为ICP等离子刻 蚀技术。等离子刻蚀技术主要是将曝光后的图形均勻复制在蓝宝石衬底上。由于衬底图形 尺寸为亚微米级别,在刻蚀的过程中,需要调整适当的腔体压力、射频功率、气体比例、冷却 阴极温度以及冷却用氦气流量等参数,使得光刻胶图形等比例均勻复制在衬底上。目前国 内多数企业在制作图形化衬底过程中采用的是在光刻前蒸...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。