技术编号:6960322
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。薄膜场效应晶体管本实用新型涉及半导体制作领域,特别是涉及一种可以减少光刻次数的薄膜场效应晶体管。背景技术薄膜场效应晶体管(TFT,thin film transistor)已大量应用于液晶显示器的制造中。在一般的TFT制程中,共有5道工序,每一道工序都需要经过上光阻、曝光、显影、腐蚀以及剥离,经过上述5次重复的工序就可以完成整个TFT的制作。但在这些工序中,上光阻、曝光以及显影工序所需要耗费的时间较长,为整个TFT制作过程的瓶颈,并且曝光工序中曝光机以及光...
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