技术编号:6975146
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于半导体制造的等离子室中包围工件的导电挡圈或环。背景技术 各种半导体制造处理,例如等离子辅助刻蚀或者化学气相沉积,在等离子处理室中进行。在室中,工件支撑部件或底座将半导体工件或衬底支撑在室内的处理位置。包括一种或多种反应物的等离子体被维持在室中邻近工件的位置,以便进行所希望的半导体制造处理。处理室包括邻近工件的阴极,阴极被电容耦合到射频电源,以便在电极上产生相对于等离子体的负的直流偏压。偏压吸引离子轰击工件以促成所希望的制造处理。射频功率帮助提...
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