技术编号：6976630
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术1、发明领域本发明涉及一种蚀刻有机抗反射涂层(ARC)，尤其是底部抗反射涂层(BARC)的方法。正如其名所示，有机抗反射涂层包括含碳和氢的材料，通常实质上为聚合物。抗反射涂层是用于制备半导体器件的蚀刻叠层的一部分，它们是被蚀刻为亚微尺寸的图案。本方法可以控制被蚀刻部件尺寸的关键尺寸变化，不论基片表面上部件间距是否变化，均在半导体基片的整个表面上提供ARC的均匀蚀刻。2、背景技术简述在半导体器件制造领域中，已知当器件的部件尺寸降至约0.18μm和更小...
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