技术编号：6987330
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种对形成有微细图案的衬底进行清洗的清洗方法。 背景技术例如在半导体设备的制造工艺中，在对半导体衬底进行蚀刻处理、成膜处理等处理之后，进行清洗处理来去除半导体衬底上的异物、副生成物、无用膜(以下称为“异物等”)。作为该清洗处理，通常使用进行以下处理的方法冲洗处理，将半导体衬底浸入到清洗液或者一边旋转半导体衬底一边喷射清洗液，之后，去除清洗液；以及干燥处理，去除冲洗液。但是，近年来，在使用清洗液(液体)对形成微细化(细线化)的抗蚀剂图案、蚀刻图案的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。