技术编号：6987692
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。幅材基板沉积系统背景技术化学气相沉积(CVD)广泛地用于沉积电介质和金属薄膜。存在许多用于执行化学气相沉积的技术。例如，可以通过在从小于10_3托变化到大气压的压力下将两种或者更多种气相的前体分子(即，前体气体A分子和前体气体B分子)引入到容纳有基板或工件的处理室中来执行化学气相沉积。通过添加能量激活或者增强在基板或工件的表面处的前体气体A分子和前体气体B分子的反应。可以以多种方式添加能量。例如，可以通过提高表面处的温度和/或通过使表面暴露于等离子体放电或...
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