技术编号：6989052

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本发明涉及等离子体处理系统。本发明尤其涉及确定等离子体处理系统是否准备好执行等离子体处理。背景技术等离子体处理系统，诸如电容耦合等离子体(CCP)系统、电感耦合等离子体(ICP) 系统和变压器耦合等离子体(TCP)系统，使用于制造晶片上设备的各种行业。例如，这些行业可以包括半导体、磁读/写和存储、光学系统以及微机电系统(MEMS)行业。等离子体处理系统可以在等离子体处理腔中产生并维持等离子体以在晶片上执行刻蚀和/或淀积，以便在晶片上形成设备特征。总之，诸如...
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