技术编号:6989470
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及元件制造领域,尤其涉及经由罩幕(mask)的离子植入(ion implantation)与一种在离子植入期间所使用的罩幕的状态监控装置及系统。背景技术离子植入是一种将变动导电率的杂质(conductivity-altering impurities)导入至基板(substrates)的标准技术。基板中精确的掺杂浓度(doping profile)及相关的薄膜结构(thin film structure)对于适当的元件效能有关键影响。通常,在离子源...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。