半导体晶片清洗系统以及清洗方法技术资料下载

技术编号:6989864

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按照35 USC §119(e)的条文,本申请要求2001年11月13日提出的美国临时专利申请NO.60/338044的优先权,该申请是本申请受让人共同拥有的,该申请的内容已作为参考文献包含在本文中。本发明涉及在各种湿处理、清洗和干燥操作期间用于支承和处理晶片例如半导体晶片的晶片支承系统。本发明具体涉及浸没处理系统中用于移送材料的边缘支承装置。通常采用半导体晶片来制造集成电路和其它的微电子器件。这种晶片通常是用易脆材料作的圆片,该圆片与其表面积相比相当薄,...
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