技术编号：6990179
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例是有关于元件制造的领域。更特定言之，本发明是有关于将基底 (substrate)图案化以供制造元件用的方法、系统及结构。背景技术在形成电子元件时，广泛地使用图案化制程。如此项技艺中所已知，存在各种类型的图案化制程。所述制程的一实例为微影图案化制程，藉由所述微影图案化制程，具有所要解析度的图案以光学方式自光罩(optical mask)转移至沉积于基底上的光阻层 (photoresist layer)，且最终转移至所述基底。在一实例中，已对基底...
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