技术编号：6990659
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。先进的激光器波长控制背景发明领域所公开的本主题属于激光器光控制的领域，且尤其属于控制可被用于半导体光刻 エ艺中的激光源的波长的领域。相关领域光刻法是半导体エ业中通常使用的エ艺。现代光刻法通常使用激光源来提供非常窄频段的光脉冲，该光脉冲照射掩模因而使得硅晶片上的光阻抗材料曝光。然而，半导体设备參数的进步已经对所使用的激光源的性能特性提出了不断増加的要求。越来越多地需要对操作的精度和速度的改进。现在參见附图说明图1，可以看见可被用于现代光刻エ艺的激光器系统10...
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