技术编号:6990706
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在被成膜基材上进行成膜的催化CVD装置、膜的形成方法和太阳能电池的制造方法。背景技术一般而言,在制造太阳能电池等各种半导体器件等时,作为在基材上形成规定的沉积膜的方法,以往已知CVD法(化学气相沉积法)。作为这样的CVD法中的1种,近年来, 研究了利用催化化学气相成长(Catalytic Chemical Vapor D印osition)的催化CVD法 (例如,专利文献1)。在催化CVD法中,使用加热的由钨和钼等构成的催化剂丝,将反应室内所供给的...
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