技术编号:6990880
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于抑制金属微细结构体的图案倒塌的处理液以及使用该处理液的金属微细结构体的制造方法。背景技术以往,作为在半导体器件、电路基板等广泛的领域中使用的具有微细结构的元件的形成和加工方法,使用了光刻技术。该领域中,伴随着要求性能的高度化,半导体器件等的小型化、高集成化或高速化显著发展,照相平版印刷中使用的抗蚀图案日趋微细化,另外深宽比日趋增加。但是,随着这样微细化等的发展,抗蚀图案的倒塌成为很大的问题。已知抗蚀图案的倒塌是如下产生的从该抗蚀图案使将抗蚀图...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。