技术编号：6992115
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明关于一种，更详细而言，关于测量在既定面上产生图案的像的光学系统的光学特性的光学特性测量方法、考虑以该光学特性测量方法测量的光学特性进行曝光的曝光方法、及利用该曝光方法的组件制造方法。背景技术半导体组件(集成电路)等逐年高度集成化，伴随于此对半导体组件等的制造装置即步进器等的投影曝光装置要求更高的高解像力。又，次层以后的图案相对于已形成在被曝光物体上的图案的重迭精度的提升也相当重要。作为其前提，必须正确地测量、评估投影光学系统的光学特性(包含成像特性)...
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